테스, 공정 기술 변화는 성장 기회[신한금융투자]
[배요한 기자] 신한금융투자는 11일 테스에 대해 공정 기술 변화는 성장의 기회라며 점유율 확대가 예상돼 주목해볼 것을 권장했다. 목표주가는 제시하지 않았다.
이주영 연구원은 동사에 대해 “삼성전자 메모리(DRAM, 3차원 NAND 등) 투자, SK하이닉스 DRAM(M14) 증설 등에 따라 내년에는 수주 모멘텀이 풍부하다”며 “반도체 공정 기술 변화에 적합한 장비 개발을 통해 전방 산업의 설비 투자 수혜가 기대된다”고 밝혔다.
이어 “DRAM 신규 라인에서 4분기부터 수주가 시작되었다”며 “NAND에 이어 DRAM에서도 고객사내 점유율이 크게 상승할 것” 이라고 전망했다.
이 연구원은 “연결기준 내년 매출액과 영업이익은 각각 1243억원과 234억원을 기록하며 전년 대비 22%, 47% 증가할 것”이라고 추정했다. 같은 기간 당기순이익은 54% 상승한 223억원일 것이라고 예상했다.
그는 “변동성이 큰 장비 업체의 특성상 고객사 다변화, 커버공정 확대, 기술 변화에 부합하는 장비 개발을 통한 사업역량 강화가 중요하다”며 “동사는 작년 LPCVD, New PECVD ACL 양산 납품에 이어 내년에는 GAS Etcher 고객 확대, 2016년에는 신규장비의 출시가 예정돼 있어 기대된다”고 말했다.
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